사각형 검출 및 피팅

직사각형 ROI를 그릴 수 있으며, 시스템은 캘리퍼 설정에 따라 여러 열의 픽셀을 추출합니다. 각 픽셀 열에서 검출된 에지점이 사각형 피팅에 사용됩니다.

직사각형 등 폐쇄 ROI의 경우, 캘리퍼 에지 검출 방향은 ROI 내부에서 외부를 향합니다. 일반적으로 캘리퍼 방향을 조정할 필요가 없으며, ROI 회전은 검출 방향에 영향을 주지 않습니다.

이 파라미터는 에지 위치에서 그레이스케일 값의 변화 방향을 지정하는 데 사용됩니다.

값 목록:

에지 검출 시 유지할 에지 유형을 정의합니다.

값 목록: 최적, 첫 번째, 마지막

이 파라미터를 선택하면, 한 열의 픽셀에서 에지 위치의 인접 픽셀 간 그레이스케일 변화량이 해당 열의 최대 변화량에 대한 지정 백분율 이상일 때만 에지점을 검출합니다. 선택 후에는 상대 임곗값을 설정해야 합니다.

이 파라미터는 검출된 에지점이 피팅된 사각형으로부터 떨어질 수 있는 최대 거리를 설정하는 데 사용됩니다. 거리가 이 임곗값 이하인 에지점은 인라이어로 간주됩니다.

기본값: 4 px

이 파라미터는 피팅 결과를 수용할 수 있는지 판단하는 최소 점수입니다. 결과 평가에만 사용되며 피팅 과정 자체에는 영향을 주지 않습니다. 점수는 인라이어 수와 전체 에지점 수의 비율과 같습니다.

측정 정밀도 요구가 높을 때는 점수 기준을 높이는 것이 좋으며, 일반적으로 0.8 이상으로 설정할 수 있습니다.

기본값: 0.7

이 파라미터는 알고리즘이 최적의 사각형을 피팅하기 위해 시도하는 최대 횟수를 제어하며, 이 횟수를 초과하면 반복이 중지됩니다.

대상 윤곽이 복잡하거나 간섭이 많을 경우 반복 횟수를 늘려 정확도를 보장할 수 있지만, 계산 시간은 증가합니다.

기본값: 1000