2D 정렬
입력과 출력
파라미터 설명
| 파라미터 | 설명 |
|---|---|
ROI 설정 |
ROI는 알고리즘이 처리할 이미지 영역을 제한하는 데 사용됩니다. 이 파라미터를 선택하면 해당 스텝은 ROI 내 데이터만 사용하여 템플릿과 매칭합니다. |
마스크 설정 |
템플릿 매칭 시 시스템은 마스크가 덮고 있는 이미지 영역을 무시합니다. 마스크의 설정 및 조정 방법은 ROI 설정을 참조하세요. |
템플릿 설정
| 파라미터 | 설명 |
|---|---|
템플릿 선택 |
이 파라미터는 매칭 템플릿을 설정하는 데 사용됩니다. 편집기 열기를 클릭하여 2D 템플릿 편집기를 열고, 이 도구에서 정렬에 사용할 템플릿을 편집합니다. 설정을 완료하고 템플릿을 저장한 뒤 ▼를 클릭하여 드롭다운 메뉴에서 템플릿을 선택합니다. 2D 매칭 템플릿 편집기 사용 설명을 참조하여 2D 매칭 템플릿 편집기의 사용 방법을 확인하세요. |
매칭 설정
자주 사용하는 파라미터
| 파라미터 | 설명 |
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에지 극성 민감 |
이 파라미터는 매칭 시 에지의 극성이 템플릿과 일치해야 하는지 여부를 제어합니다. 극성은 에지에서의 그레이스케일 변화 방향을 의미하며, 예를 들어 밝음에서 어두움 또는 어두움에서 밝음으로의 변화를 뜻합니다. 데이터 취득 시나리오 차이가 크지 않다면 이 옵션을 활성화하여 매칭 정확도를 보장할 수 있습니다. 차이가 큰 경우에는 이 옵션을 비활성화하여 매칭의 일반화 성능을 높일 수 있습니다. 기본적으로 활성화되어 있습니다. |
최소 매칭 점수 |
이 파라미터는 매칭 결과의 유효성을 판단하는 데 사용됩니다. 매칭 점수가 이 값보다 낮은 결과는 폐기됩니다. 기본값: 50.0 |
고급 파라미터
| 파라미터 | 설명 | ||
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유효 매칭 임곗값 |
대상 이미지에서 그래디언트 크기가 이 값 이상인 점은 유효한 에지 점으로 간주되어 매칭 점수 통계에 포함됩니다. 기본값: 10 |
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유효 매칭 비율 하한 |
유효하게 매칭된 에지 점 수가 템플릿 전체 에지 점 수에서 차지해야 하는 최소 비율입니다. 기본값: 50% |
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검색 반경 |
포즈 보정 과정에서 각 템플릿 특징점에 대해 대상 이미지에서 대응 매칭점을 찾을 때 허용되는 원형 검색 영역의 반경입니다. 기본값: 8
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중첩 비율 상한 |
중복된 매칭 결과를 필터링하는 데 사용됩니다. 두 매칭 결과 간 중첩 비율이 이 값을 초과하면 매칭 점수가 더 높은 결과만 유지됩니다. 기본값: 50% |
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패딩 비율 |
매칭할 물체가 이미지 경계를 일부 벗어날 수 있는 경우, 허용할 패딩 크기가 템플릿 크기에서 차지하는 비율을 지정합니다. 패딩은 에지 매칭 성공률을 높일 수 있지만 일반적으로 계산량도 증가시킵니다.
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