정렬

파라미터 설명: 이 파라미터는 광도 이미지의 사용 여부를 선택하는 데 사용됩니다. 이 파라미터 옵션을 선택하면 해당 스텝에서 광도 이미지의 입력 포트를 추가합니다.

파라미터 설명: 특징 구역은 알고리즘 처리 구역을 제한하는 데 사용되며 파라미터 옵션을 선택한 후 이 스텝은 특징 구역 내부의 데이터만 처리합니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 매칭 모델을 설정하는 데 사용됩니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 어느 피라미드 층부터 아래로 모델 매칭이 시작되는지 나타냅니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 매칭 결과가 유효한지 여부를 결정하는 데 사용되며 매칭 점수가 역치 미만인 결과는 폐기됩니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 픽셀 패딩 수량의 상한을 설정하는 데 사용됩니다.

파라미터 설명: 두 매칭 결과가 겹칠 때 해당 파라미터를 사용하여 중첩 비율의 상한을 설정합니다. 중첩 비율이 설정 값보다 크면 매칭 점수가 높은 매칭 결과는 유지되고 매칭 점수가 낮은 매칭 결과는 폐기됩니다.

파라미터 설명: 매칭 과정 중 이 파라미터는 알고리즘에서 피라미드의 가장 낮은 레벨을 무시할지 여부를 결정하는 데 사용됩니다. 이 파라미터 옵션을 선택하면 매칭 속도를 향상시킬 수 있습니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 전략을 최적화하는 데 사용됩니다. 이 파라미터를 설정한 후 이미지의 그레이스케일 값이 설정 값보다 큰 구역에서 매칭이 실행됩니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 전략을 최적화하는 데 사용됩니다. 이 파라미터를 설정한 후 이미지의 그레이스케일 값이 설정 값보다 작은 구역에서 매칭이 실행됩니다.

파라미터 설명: 이 파라미터를 선택한 후 비강성 포즈를 사용하여 매칭 결과를 정확하게 수정합니다. 이 기능은 물체의 변형이 있는 시나리오에 사용됩니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 포즈 수정 과정에서 해당 포인트를 찾을 때 반경을 설정하는 데 사용됩니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 포즈 수정 과정에서 에지의 픽셀을 추출하는 데 사용됩니다. 이 값이 낮을수록 더 많은 픽셀이 에지 픽셀로 간주됩니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 포즈 수정 과정에서 에지의 픽셀을 추출하는 데 사용됩니다. 이 값이 높을수록 더 적은 픽셀이 에지 픽셀로 간주됩니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 모델이 매칭 속도를 높이기 위해 다운 샘플링 중의 보폭을 설정하는 데 사용됩니다. 이 값이 클수록 포즈 수정은 빨라질 수 있지만 매칭 결과의 정확도가 낮아질 수 있습니다.

파라미터 설명: 이 파라미터는 매칭 속도를 높이기 위해 이미지 다운 샘플링 중의 보폭을 설정하는 데 사용됩니다. 이 값이 클수록 포즈 수정은 빨라질 수 있지만 매칭 결과의 정확도가 낮아질 수 있습니다.