표면 정렬

이 파라미터는 매칭 시 에지의 극성이 템플릿과 일치해야 하는지 여부를 제어합니다. 극성은 에지에서의 그레이스케일 변화 방향을 의미하며, 예를 들어 밝음에서 어두움 또는 어두움에서 밝음으로의 변화를 뜻합니다.

데이터 취득 시나리오 차이가 크지 않다면 이 옵션을 활성화하여 매칭 정확도를 보장할 수 있습니다. 차이가 큰 경우에는 이 옵션을 비활성화하여 매칭의 일반화 성능을 높일 수 있습니다.

기본적으로 활성화되어 있습니다.

이 파라미터는 매칭 결과의 유효성을 판단하는 데 사용됩니다. 매칭 점수가 이 값보다 낮은 결과는 폐기됩니다.

기본값: 50.0

대상 이미지에서 그래디언트 크기가 이 값 이상인 점은 유효한 에지 점으로 간주되어 매칭 점수 통계에 포함됩니다.

기본값: 10

유효하게 매칭된 에지 점 수가 템플릿 전체 에지 점 수에서 차지해야 하는 최소 비율입니다.

기본값: 50%

포즈 보정 과정에서 각 템플릿 특징점에 대해 대상 이미지에서 대응 매칭점을 찾을 때 허용되는 원형 검색 영역의 반경입니다.

기본값: 8

중복된 매칭 결과를 필터링하는 데 사용됩니다. 두 매칭 결과 간 중첩 비율이 이 값을 초과하면 매칭 점수가 더 높은 결과만 유지됩니다.

기본값: 50%

매칭할 물체가 이미지 경계를 일부 벗어날 수 있는 경우, 허용할 패딩 크기가 템플릿 크기에서 차지하는 비율을 지정합니다. 패딩은 에지 매칭 성공률을 높일 수 있지만 일반적으로 계산량도 증가시킵니다.