장공 검출 및 피팅
기본 개념
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장공
가운데는 직사각형이고 양쪽 끝은 반원인 구멍 구조로, 일정한 슬라이딩 또는 조정을 허용하기 위해 기계 및 자동차 부품 설계에 널리 사용됩니다.
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캘리퍼
이미지 처리 과정에서 특정 영역의 에지를 검출하기 위한 가상 측정 도구입니다. 캘리퍼의 수량, 너비, 길이를 조정하면 에지 검출의 정확도와 안정성에 영향을 줄 수 있습니다.
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에지 극성
이미지에서 에지의 그레이스케일 값이 변화하는 방향을 의미합니다. 예를 들어 어두움에서 밝음으로, 또는 밝음에서 어두움으로의 변화입니다.
사용 방법
이 스텝의 사용 방법은 다음과 같습니다.
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입력 데이터를 선택합니다. 프로젝트 편집 구역에서 해당 스텝의 포트를 연결하거나 파라미터 설정 구역의 입력 섹션에서 해당 입력 데이터를 선택합니다.
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ROI 설정을 완료합니다.
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기타 파라미터를 설정합니다.
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출력 섹션에서 출력 항목을 확인합니다.
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스텝을 실행하고 실행 결과를 확인합니다.
입력 설명
| 입력 항목 | 설명 |
|---|---|
이미지 |
장공 에지를 검출하는 데 사용되는 이미지입니다. |
정렬 파라미터 그룹 |
대상 물체의 포즈 변화에 따라 ROI의 포즈를 동기화하여 조정하는 데 사용됩니다. |
파라미터 설명
| 파라미터 | 설명 |
|---|---|
ROI 설정 |
장공 ROI를 그릴 수 있으며, 시스템은 캘리퍼 설정에 따라 여러 열의 픽셀을 추출합니다. 각 픽셀 열에서 검출된 에지점이 장공 피팅에 사용됩니다. 장공 등 폐쇄 ROI의 경우, 캘리퍼 에지 검출 방향은 ROI 내부에서 외부를 향합니다. 일반적으로 캘리퍼 방향을 조정할 필요가 없으며, ROI 회전은 검출 방향에 영향을 주지 않습니다. 2D ROI 설정을 참조하여 ROI와 캘리퍼에 대한 자세한 내용을 확인하세요. |
에지 극성 |
이 파라미터는 에지 위치에서 그레이스케일 값의 변화 방향을 지정하는 데 사용됩니다. 값 목록:
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필터 창 크기 |
추출된 각 픽셀 열에 대해 해당 방향으로 필터링할 때 사용하는 창 크기를 지정합니다. 필터링은 노이즈를 줄이고 에지 검출 결과의 안정성을 높여 줍니다. |
에지 유형 |
에지 검출 시 유지할 에지 유형을 정의합니다. 값 목록: 최적, 첫 번째, 마지막 |
그레이스케일 변화 임곗값 |
이 파라미터는 추출된 픽셀 열에서 에지 위치의 인접 픽셀 간 그레이스케일 변화량이 이 임곗값보다 크거나 같을 때만 에지점을 검출하도록 결정합니다. 이 값을 적절히 설정하면 미약한 에지와 노이즈를 효과적으로 걸러낼 수 있습니다. |
상대 임곗값 사용 |
이 파라미터를 선택하면, 한 열의 픽셀에서 에지 위치의 인접 픽셀 간 그레이스케일 변화량이 해당 열의 최대 변화량에 대한 지정 백분율 이상일 때만 에지점을 검출합니다. 선택 후에는 상대 임곗값을 설정해야 합니다. |
이상점 비율 |
장공 피팅 과정에서 제거할 이상점의 비율입니다. |
출력 설명
출력 항목을 선택하면 스텝에 해당 출력 포트가 추가되며, 스텝 실행 후 대응하는 데이터가 출력됩니다. 실제 측정 요구에 따라 필요한 출력 항목을 선택할 수 있습니다.
| 출력 항목이 확장 가능한 경우(왼쪽에 ▶가 표시됨), 선택 후 반드시 펼쳐 하한과 상한을 설정하여 해당 항목의 합격 범위를 정해야 합니다. 출력값이 합격 범위 내에 있으면 해당 측정 항목은 합격(OK)으로 판정되고, 그렇지 않으면 불합격(NG)으로 판정됩니다. |
| 출력 항목 | 설명 |
|---|---|
장공 포즈 |
피팅된 장공의 위치와 방향입니다. |
중심점 |
피팅된 장공의 기하 중심입니다. |
중심점 X 좌표 |
피팅된 장공 중심점의 X 좌표값입니다. |
중심점 Y 좌표 |
피팅된 장공 중심점의 Y 좌표값입니다. |
단축 길이 |
피팅된 장공의 너비, 즉 장공 양 끝 반원의 지름입니다. |
장축 길이 |
피팅된 장공의 전체 길이로, 양 끝 반원의 중심 사이 거리(즉 가운데 직사각형의 길이)에 두 반원의 반지름을 더한 값입니다. |
장공 회전 각도 |
피팅된 장공이 X축의 양의 방향에 대해 가지는 회전 각도입니다. |
피팅된 장공 |
피팅으로 얻은 장공입니다. |
오류 분석
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