フィルタリングルールの設定

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検証パラメータ欄でフィルタリングルール設定をクリックすると、モデルに対してフィルタリングルールを設定できます。任意ワーク把持(V2)モジュールでは、モフォロジー処理ラベルのクラスによるフィルタリング共通ルールの設定、およびロジックルールの設定を構成できます。

filtering rule settings

設定が有効になると、検証の結果は設定内容に応じて変化し、関連する設定もエクスポートされたモデルに反映されます。

モフォロジー処理

有効にすると、マスクに対してモルフォロジー処理を行い、対象領域を改善できます。

パラメータ 説明

モフォロジー処理

有効にすると、マスクに対してモルフォロジー処理を行います。

モフォロジー処理のタイプ

比率指定の収縮処理画素単位の収縮処理の2種類に対応しています。

  • 比率指定の収縮処理:収縮の比率を指定します。マスクの面積と周囲長の比率に基づき、設定された比率でエッジから内側に向かって収縮処理を行います。対象物の大きさが大幅に変化するシーンに適しています。初期値は 80% です。

  • 画素単位の収縮処理:収縮の画素数を指定します。設定された画素の値でエッジから内側に向かって収縮処理を行います。対象物の大きさが一定である場合や、精密な画素制御が必要なシーンに適しています。初期値は 3px です。

ラベルのクラスによるフィルタリング

「ラベルのクラス」リストから対象となるクラスを選択してフィルタリングルールを有効にすることができます。有効にすると、該当するクラスの対象に対してのみフィルタリングが実行されます。

現在のフィルタリングルールを指定のクラスまたは全クラスに同期させるには、フィルタリングルール設定の右側にある適用対象をクリックし、適用範囲を選択してください。

共通ルールの設定

共通ルールの設定は、推論結果に対して基礎的なフィルタリングを行うために使用します。まず共通ルールで一次フィルタリングを行い、その後、ロジックルールを組み合わせて詳細なフィルタリングを行うことを推奨します。

分布領域によってフィルタリング

分布領域によってフィルタリングは、推論結果の保持範囲を制限するために使用します。分布領域を設定すると、その領域内の推論結果のみが保持されます。

分布領域の設定手順は以下の通りです。

  1. パラメータにチェックを入れて 分布領域を設定 をクリックします。

  2. 表示されたウィンドウで保持する領域を描画します(複数の領域を描画可能)。

  3. OKをクリックします。

    distribution area filter

ロジックルールの設定

ロジックルールの設定は、推論結果に対して詳細なフィルタリングを行い、追加された複数のフィルタリング条件間のロジック関係を設定するために使用します。

条件間のロジック

条件間のロジックは、追加された複数のフィルタリング条件(面積、外接矩形の横縦比、真円度など)に対して、条件間のロジック(AND または OR)を一括で設定するために使用します。

異なる条件項目は条件間のロジック(AND/OR)で組み合わされます。同じ条件項目を複数追加する場合は、常に OR で組み合わされ、条件間のロジック設定による影響は受けません。

条件間のロジックの設定手順は以下の通りです。

  1. 条件追加をクリックし、ドロップダウンリストからフィルタリング条件を選択します。

  2. 基準値範囲に基づいてフィルター値の範囲を設定し、その条件を実行します。

  3. 必要に応じて条件間のロジック(AND または OR)を設定します。

  • 共通ルールが設定されている場合、推論結果はまず共通ルールを満たした上で、ロジックルールによるフィルタリングに進みます。

  • 各条件は、個別に有効化、無効化、または削除することができます。

フィルター条件の説明

条件 説明

基本オプション

面積

個々の認識対象領域の総ピクセル数。サイズが大きすぎる、または小さすぎる対象をフィルタリングする。

総面積

現在の検出領域内におけるすべての認識対象のピクセル数の合計。対象の総カバー範囲を制限し、過剰検出または広範囲な対象群を回避する。

外接矩形の高さ

対象の軸合わせ外接矩形の高さ(ピクセル)。すなわち、座標軸に平行な最小長方形の高さ。対象の垂直方向における最大または最小スパンをフィルタリングする。対象が傾いていない場合や、軸に沿って整列しているシーンに適している。対象が傾いている場合、この値は実際の高さよりも大きくなる可能性がある。

外接矩形の幅

対象の軸合わせ外接矩形の幅(ピクセル)。すなわち、座標軸に平行な最小長方形の幅。対象の水平方向における最大または最小スパンをフィルタリングする。対象が傾いていない場合や、軸に沿って整列しているシーンに適している。対象が傾いている場合、この値は実際の幅よりも大きくなる可能性がある。

外接矩形の横縦比

対象の軸合わせ外接矩形の長辺と短辺の比率。異なる形状の対象を区別する(例:細長いキズと円形の凹み)。

主軸角度

対象の主軸と水平方向のなす角(度)。特定の方向性を持つ対象をフィルタリングする。

詳細オプション

真円度

対象形状が真円に近い度合いを評価する。値が 1 に近いほど形状が真円であることを示し、円形の対象(ネジ穴など)と不規則な形状の対象(ひび割れや汚れなど)を区別する。

外接矩形の中心 X

軸合わせ外接矩形の中心点の X 座標。画像内の対象の水平位置をフィルタリングする。

外接矩形の中心 Y

軸合わせ外接矩形の中心点の Y 座標。画像内の対象の垂直位置をフィルタリングする。

内接円の半径

対象の内部に完全に収まる最大円の半径。対象の「詰まり具合」や最小の貫通穴サイズを評価し、内部に空洞があるものや形状が不完全な対象を除外する。

外接円の半径

対象全体を完全に囲む最小の円の半径。対象の最大外形寸法をフィルタリングするために用いられる。例:円形ワークの大まかな位置決めや寸法上限のフィルタリング

内接矩形の幅

対象の内部に完全に収まる最大矩形の幅。対象物内部の有効領域における横方向の寸法をフィルタリングし、エッジの欠けが著しい物体を除外する。

内接矩形の高さ

対象の内部に完全に収まる最大矩形の幅。対象物内部の有効領域における縦方向の寸法をフィルタリングし、エッジの欠けが著しい物体を除外する。

重心 X

対象領域のグレースケールまたは幾何重心の画像座標系における横方向位置。幾何学的中心と比べて、実物のコア位置をより適切に反映する。画像の特定の水平領域内に存在する対象をフィルタリングする。

重心 Y

対象領域のグレースケールまたは幾何重心の画像座標系における縦方向位置。幾何学的中心と比べて、実物のコア位置をより適切に反映する。画像の特定の垂直領域内に存在する対象をフィルタリングする。

外接矩形の左上 X

対象の軸合わせ外接矩形の左上角の X 座標。画像内における対象の水平方向の開始位置をフィルタリングする。

外接矩形の左上 Y

対象の軸合わせ外接矩形の左上角の Y 座標。画像内における対象の垂直方向の開始位置をフィルタリングする。

外接矩形の右下 X

対象の軸合わせ外接矩形の右下角の X 座標。画像内における対象の水平方向の終了位置をフィルタリングする。

外接矩形の右下 Y

対象の軸合わせ外接矩形の右下角の Y 座標。画像内における対象の垂直方向の終了位置をフィルタリングする。

回転外接矩形の幅

対象の最小面積外接矩形の幅(ピクセル)。任意の角度に回転可能、対象の実際の形状により適合する。対象が傾いている場合の幅のフィルタリングに適している。

回転外接矩形の高さ

対象の最小面積外接矩形の高さ(ピクセル)。任意の角度に回転可能、対象の実際の形状により適合する。対象が傾いている場合の高さのフィルタリングに適している。

軸合わせ外接矩形とは、4つの辺が画像の座標軸(水平/垂直方向)に平行な最小の外接矩形を指します。

必要な設定項目を完了したら、OK をクリックすると、設定が有効になります。

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